真空鍍膜技術在塑料薄膜上的應用-真空鍍膜檢測設備
有機塑料薄膜真空鍍膜一般采用熱蒸發和濺射鍍膜,目前市場上用熱蒸發的方式更多一些,主要問題就是塑料不耐溫,熱蒸發和濺射的方式產生的溫升小,一般鍍純金屬比較多,比如Cr,Al等。
而真空鍍膜檢測設備,主要用于真空鍍膜生產線上,產品光學性能的實時檢測。鍍膜產品在生產的過程中,需要監控產品的透光率是否達標。林上現已研發一款針對真空鍍膜檢測設備。用于生產過程中,品質的監控。
真空鍍膜檢測設備包括以下三部分:
1.探測系統,主要包括光源,接收器和支架(測試點的多少,由用戶定制)。
2.現場顯示系統,顯示實時的各個測試點的光密度參數。
3.電腦實時監控采集系統(通過通訊線和設備連接),實現在辦公室內監控真空鍍膜室內產品品質狀況。
真空鍍膜檢測設備可同時測量多個測試點,點數的多少根據客戶需求定制。可以選擇紅外,紫外和可見光的透過率測試。也可用于太陽膜生產線、玻璃生產線,涂料,有機材料生產線上的光學質量檢測。
塑料表面金屬化將改善塑料的表面性質,使其具有塑料和金屬兩者的獨特功能,真空鍍膜技術是現代塑料表面金屬化的主要技術之一。使塑料表面金屬化的方法有很多,如電鍍法、熱噴涂法、真空鍍膜法等都能達到塑料表面金屬化的目的。這幾種方法中,真空鍍膜法是在高真空狀態下,采用加熱或離子轟擊的方法,使金屬材料由固態迅速轉化為氣態,以分子或原子形態沉積在塑料表面形成一薄層金屬膜,被認為是塑料表面金屬化最有效的手段之一。
真空蒸發鍍膜在真空環境下加熱鍍膜材料,使它在極短時間內蒸發,蒸發了的鍍膜材料分子沉積在塑料表面上形成鍍膜層。此法簡單便利、操作容易、成膜速度快、效率高,是薄膜真空制備中較為廣泛使用的技術。
但薄膜與基體結合較差,工藝重復性不好,只能蒸發鋁這樣的低熔點金屬。磁控濺射鍍膜是在真空中充入惰性氣體,并在塑料基體和金屬靶之間加上高壓直流電,由輝光放電產生的電子激發惰性氣體,產生等離子體,等離子體將金屬靶材的原子擊出,沉積在塑料基體上。
由于濺射原子能量比蒸發原子能量高1-2個數量級,高能量的濺射原子沉積在基體時轉換的能量多,甚至可發生部分注入現象,同時濺射成膜過程中,基體始終在等離子區中被清洗和激活,因此濺射鍍膜與塑料表面的附著力要比蒸發鍍膜好,膜層致密、均勻,如配合適當的工件轉動,可在復雜表面上獲得較均勻的鍍層。