蒸發真空鍍膜，就是在真空的環境，將固體材料加熱蒸發，蒸發出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當把一些加工好的基板材料放在其中時，蒸發出來的原子或分子就會吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。加熱蒸發后，使其淀積在適當的表面上。其均勻性就決定了鍍膜的品質。

光密度在線測試儀LS152，可以在真空鍍膜生產的過程中進行鍍膜厚均勻性的監測。通過紅外線透過率、紫外線透過率以及可見光穿透率，來進行監控感應鍍膜的均勻性。

影響厚度均勻性的因素有哪些呢？

基片上的膜厚度，就算是同一種物質都會出現分子結構不同的情況，而真空鍍膜就是一種物質覆蓋另一種物質，如果這兩種物質的分子結合能夠很好的鑲嵌在一起，那么對真空鍍膜情況是有很大好處的。

基片表面的溫度也會影響真空鍍膜厚度是否均勻，基片的溫度越高鍍膜效果越好，也有一些特殊材料，基片溫度越低鍍膜的效果更好。

真空鍍膜機的蒸發功率和速率，也是影響真空鍍膜情況一個較大的因素，想要改變的話只能在真空鍍膜機上改善，想要通過加大真空鍍膜設備的蒸發功率，來改變鍍膜情況是比較困難的。

最后真空鍍膜的時間和所需鍍膜的厚度，也是影響均勻性的因素。最有效的辦法，就是通過光密度在線測試儀LS152，來連續測試鍍膜厚度的均勻性是否達到標準。